从2001到2004年，尼康公司与ASET合作，制作出了小型EUV光刻实验工具HiNA3。
2004年6月17日，BSEC突然公开宣布，全球第一台65nm制程的浸没式光刻机TWINSCANNXT:2250i被研发成功！
2250i的问世不仅成为全球光刻机行业划时代的重要事件，也对全球半导体行业的发展承前启后。
BSEC首次成为全球光刻机行业发展的领导者！
尼康公司如梦初醒，急忙停止EUV的研究，集中全部力量研发65nm制程的干式光刻机NSR-S308F。
这些年，尼康公司在EUV光源和光学系统上投资了7亿多美元，虽然没有研发成功EUV光源发生器，但研发成功了157nm激光器，借助于ASET的资源，5个月不到就研发成功NSR-S308F，发现制程达不到65nm，又集中精力研发成功偏振照明系统Polano，弥补了157nm波长的缺陷；不到一年，全球第一台45nm制程的DSP-100干式光刻机横空出世。
厚积薄发！
尼康公司又夺回全球光刻机行业的老大位置！
日本经济产业大臣甘立明代表日本政府亲自到尼康公司祝贺，奖励2000万美元。
尼康公司管理层、技术团队和普通员工喜笑颜开，干劲十足。
日本半导体行业欢欣鼓舞，决定联合投资2350亿日元（20亿美元），在东京都千代田区建设全球第一条45nm制程工艺的半导体生产线。
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“孙先生，BSEC什么时候能研发成功45nm制程的浸没式光刻机？”
6月5日，阿密特从日本打来电话，接到尼康公司的邀请，他代表Intel前往尼康公司查看DSP-100干式光刻机的性能，尼康公司希望Intel提前预定DSP-100，价格可以优惠。
在1994年GCA重回光刻机老大之前，Intel一直是尼康公司的最大客户。
Intel正在研发第一款四核处理器Core2Quad，即将开启四核时代的大门，这款CPU拥有582，000，000个晶体管，运行速度为3.4GHz，最大存储容量为32TB，采用45nm制程工艺。
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阿尔特曼代表AMD公司也出现在
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