工艺的同时，公司投资开始研发浸没式光刻机，两条腿走路！”
常务副总裁原田弘树负责尼康光刻机的生产和销售，由于bSEc浸没式光刻机率先问世，制程工艺达到65nm，还是双工作台，如今正在建设的6条65nm制程工艺的半导体生产线，除了台积电采购了ASmL浸没式光刻机外，其他5条都是采购bSEc浸没式光刻机，公司已经失去了65nm制程工艺光刻机的市场份额，忧心忡忡，开始怀疑公司全球领先的157nm干式光刻机路线。
即使公司率先研制成功45nm制程工艺的干式光刻机，购买了65nm制程工艺浸没式光刻机的晶圆厂，更换干式光刻机需要对生产线进行重新设计，掩膜保护膜也要更新，如果投资很大，没有绝对把握，他们不愿意轻易投资。
“我支持会长的意见，公司重新投入巨资研发浸没式光刻机，如今两条腿走路，公司的财务支持会吃不消。”
尼康半导体公司财务副总裁梅根·兰布林也支持森佳照明。
“我希望光刻机研究所早日研发成功45nm制程工艺的光刻机。”
主持会议的吉田一郎最后总结，给公司的发展路线最后定调。
（本章完）